精密运动平台定做厂家

Wafer & Precision Instrument Motion Stage

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  • 半导体精密运动平台

半导体精密运动平台

  • 半导体精密运动平台XY轴采用直线电机驱动,滑块滚柱导轨导向及光栅尺闭环反馈组成,R轴直驱电机驱动可实现360°旋转,Z轴布置于平台大理石横梁,常用于半导体精密制造及检测。底轴宽度约是上轴长度的2/3,可防止重心不稳定。配备自润滑的精密滚柱导轨,具有精度高、刚性好等特点。

  • 产品参数

    重复定位精度:±1μm
    定位精度:3μm
    有效行程:100 - 350mm
    最高速度:300mm/s
    直线度:6μm / 500mm
    最大负载:10kg

    Tips:丝杆直线模组行程超过750mm时,会产生螺杆偏摆,此时请将降低速度,详情参数及选型建议咨询业务人员。

半导体精密运动平台XY轴采用直线电机驱动,滑块滚柱导轨导向及光栅尺闭环反馈组成,R轴直驱电机驱动可实现360°旋转,Z轴布置于平台大理石横梁,常用于半导体精密制造及检测。


运动平台特点

  • 高精度的直驱结构;

  • 中型宽度,高刚度设计;

  • 光栅尺闭环反馈;

  • R轴角度定位;

  • 定制高加速度;

  • 可选配防尘罩装置。 


运动平台参数

 规格  轴向 X轴Y轴R轴
重复定位精度±1μm±1μm±5 arc sec
定位精度3μm3μm30 arc sec
有效行程100 - 350mm100 - 600mm-
最高速度300mm/s-
直线度6μm / 500mm   -
行走平面度000级 -
加速度0.5G-
最大负载10kg-
光栅尺分辨率0.1μm-

注意:以上参数仅做为选型参数使用,最终参数以出厂产品为准。以上定位精度在实验环境下激光干涉仪补偿后测得。


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